微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統是一種用于制備薄膜的先進技術，該技術利用了微波輻射和等離子體化學反應的優勢。該系統包括一個微波發生器、一個反應室、一個氣體供應系統和一個真空泵組成。
首先，微波發生器產生高頻電磁場，并將能量輸送到反應室中，使得氣體分子與微波電場產生相互作用，激發其內部電子從基態躍遷至激發態。這些激發態分子會與其他分子發生碰撞，從而形成等離子體。
反應室由不銹鋼材料制成，背面有水冷卻裝置，以控制反應室溫度。室內設置有樣品架，樣品架上放置待處理材料。在反應室底部設置防止污染的保護層，同時還可以隔離反應室與真空泵之間的連接口。
氣體供應系統通常由多個進氣口組成，每個進氣口都有單獨的流量計、閥門和壓力計。通過精確調節不同氣體輸入口的流量和壓力，可以控制反應室內氣體的配比和總壓力。
真空泵用于排出反應室中的空氣和殘余氣體，以維持反應室內的低壓狀態。通常使用機械泵和分子泵的組合，前者能夠快速排出大量氣體，后者則能更好地排出高真空下的殘余氣體。
在MPCVD系統中，合適的反應氣體和氣壓條件對于薄膜的質量和性能至關重要。常用的反應氣體包括甲烷、乙烯、氧氣、氮氣等，而氣壓通常在1-10Torr的范圍內調節。
總之，微波等離子化學氣相沉積系統是一種高效、精密控制的制備薄膜技術。通過控制反應氣體的流量、壓力和功率等參數，可以在樣品表面沉積出具有高純度、均勻性和可重復性的薄膜，廣泛應用于電子器件、光學器件、傳感器等領域。
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更新時間：2023-05-28 
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