全自動磁控濺射系統是一種用于薄膜沉積技術的設備，廣泛應用于半導體、光電、光學薄膜、傳感器等領域。該系統利用高能離子束轟擊靶材，通過物質濺射的方式，在基材表面沉積薄膜。全自動磁控濺射系統的基本原理：1.氣體離子化：在高真空環境中，惰性氣體（如氬氣）被導入腔體，施加高頻電壓形成等離子體，使氣體部分離子化。2.離子加速：離子被電場加速并朝向靶材運動。3.靶材濺射：高速運動的離子與靶材發生碰撞，使靶材表面原子獲得足夠的能量，從而逸出表面，形成濺射物質。4.薄膜沉積：濺射出的原子在腔體...

磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）技術，廣泛應用于薄膜材料的制備。其基本原理是利用高能粒子轟擊靶材，導致靶材原子或分子逸出，并在基材表面沉積形成薄膜。該過程通常在真空環境中進行，以確保沉積過程中的純凈和無污染。全自動磁控濺射系統的部分組成：1.真空腔體：作為整個濺射過程的核心部分，真空腔體配備有高效的抽真空系統，確保低壓環境。2.靶材和基材架：靶材通常采用高純度的金屬或合金，根據不同的沉積需求選擇；基材架則負責固定待涂覆的基材，確保在濺射過程中的穩定性。3.磁場系統：...

飛行時間二次離子質譜法（TOF-SIMS）是一種高度靈敏的表面分析技術，可揭示樣品頂部幾個原子層的質譜數據。Kore很榮幸成為InnoviaFilms的TOF-SIMS供應商，InnoviaFilms是一家材料科學公司，為包括標簽、包裝以及錢幣在內的各種產品生產基礎膜。InnoviaFilms與Kore接洽，要求研究其高度差異化的雙向拉伸聚丙烯（BOPP）薄膜的不同表面處理。Kore設計的SurfaceSeer儀器成為Kore后續TOF-SIMS儀器的基礎，并為Innovia...

便攜式飛行時間質譜儀（PortableTime-of-FlightMassSpectrometer,TOF-MS）是一種高靈敏度、高分辨率的分析工具，廣泛應用于環境監測、食品安全、藥物檢測、軍事安全等領域。與傳統的實驗室質譜儀相比，具有體積小、重量輕、操作簡便等特點，使其能夠在現場快速進行分析和檢測。便攜式飛行時間質譜儀的工作原理：1.樣品離子化：樣品先通過離子化源被轉化為離子。常見的離子化方法包括電噴霧離子化（ESI）、基質輔助激光解吸/電離（MALDI）和化學離子化（CI...

全自動磁控濺射系統是現代薄膜材料制備技術中一種重要的設備，廣泛應用于半導體、光電、超導材料和光學薄膜等領域。此系統以其高效率、高均勻性和良好的膜層特性而受到重視。通過精確的控制技術，自動化濺射過程使得膜層的性能更為穩定并可重復，大幅提高了生產效率。全自動磁控濺射系統的結構組成：1.真空腔體：提供低壓環境，通常采用不銹鋼或鋁合金制作，具有很好的密封性與耐腐蝕性。2.靶材：用于濺射的材料，常見的有金屬、合金或化合物。靶材的選擇直接影響薄膜的成分和性能。3.磁控裝置：通過調整磁場的...

全自動ICP刻蝕系統是一種先進的半導體制造設備，廣泛應用于微電子、光電器件及MEMS（微電機械系統）等領域。ICP（感應耦合等離子體）刻蝕技術以其高效率、高選擇性和良好的均勻性而受到青睞。ICP刻蝕是一種利用感應耦合等離子體產生高密度等離子體，并通過對其進行控制來實現對材料的去除過程。在該技術中，氟化氣體等化學試劑通過噴嘴進入反應室，與等離子體中的電子和離子發生碰撞，形成活性物種，在材料表面發生化學反應，進而實現刻蝕。全自動ICP刻蝕系統的部分組成：1.反應室：用于進行刻蝕反...

在現代科學研究和工業分析領域，對物質的快速、準確分析需求日益增長。質子轉移反應飛行時間質譜儀（ProtonTransferReactionTime-of-FlightMassSpectrometry，PTR-TOF-MS）作為一種先進的分析儀器，以其高靈敏度、高分辨率、快速響應等特點，在環境監測、食品安全、生命科學等眾多領域發揮著重要作用。質子轉移反應飛行時間質譜儀的特點：1.高靈敏度PTR-TOF-MS具有非常高的靈敏度，可以檢測到極低濃度的VOCs。這是由于質子轉移反應的...

金屬有機化學氣相沉積系統是一種用于制造高質量薄膜和納米結構材料的重要技術。自其發展以來，MOCVD在半導體、光電子以及儲能材料等領域展現了廣泛的應用前景。金屬有機化學氣相沉積系統組成：1.氣源供應系統：提供金屬有機前驅體和反應氣體。常見的金屬有機前驅體包括三甲基鎵（TMGa）、三乙基鎵（TEGa）、三甲基銦（TMIn）等。這些前驅體通常是液態或固態，通過加熱和載氣（如氫氣或氮氣）引入反應室。2.反應室：是MOCVD系統的核心部件，通常為高真空腔體。反應室內設有基片臺，用于放置...